装置一覧

【電子顕微鏡】

<ULV-SEM (極低加速 走査型電子顕微鏡)>

装置名称:JSM-7800 PRIME

メーカー:日本電子(株)

導入:平成29年3月2日

機能:極低加速観察、元素分析(EDS、WDS)

 

 

 

<FE-SEM (電界放出型 走査型電子顕微鏡)>

装置名称:JSM-7001FFESEM(baner)

メーカー:日本電子(株)

導入:平成20年

機能:元素分析(EDS)、結晶方位解析(EBSD)

 

 

<TEM (電界放出型 透過型電子顕微鏡)>

TEM装置名称:JEM-2100

メーカー:日本電子(株)

導入:平成23年

加速電圧:80~200KV(LaB6フィラメント)

機能:元素分析(EDS)、STEM機能

 

 

【集束イオンビーム加工装置】

<FIB>

FIB装置名称:MI-4050

メーカー:(株)日立ハイテク

導入:平成25年

加速電圧:0.5~30KV

最大電流:90nA

 

 

 

【プローブ顕微鏡】

<AFM (原子間力顕微鏡)>

NX-10装置名称:NX-10

メーカー:Park Systems

導入:平成28年

スキャンレンジ:(X-Y)100μm、(Z)15μm

試料サイズ:最大50×50mm、厚さ20mm

機能:完全非接触、液中、磁力、機械特性

 

 

 

【光学顕微鏡】

<デジタルマイクロスコープ>

VM200

装置名称:VM200

メーカー:(株)精密ウェーブ

導入:平成23年

倍率:×25~25,000

機能:深度剛性、3Dプロファイル

 

 

<金属顕微鏡>
BX60M装置名称:BX60M

メーカー:OLYMPUS

導入:平成21年

接眼レンズ:×10

対物レンズ:×5、×10、×20、×50

 

 

<生物顕微鏡>

BX41装置名称:BX41

メーカー:OLYMPUS

導入:平成21年

接眼レンズ:×10

対物レンズ:×4、×10、×20、×40

 

 

【蒸着装置関連】

<オスミウムコーター>

OPC40装置名称:OPC40

メーカー:(株)Filgen

導入:平成20年

機能:オスミウム薄膜の蒸着

 

 

<イオンコーター>

E102装置名称:E-102

メーカー:(株)日立

導入:昭和59年

機能:白金パラジウム薄膜の蒸着

 

 

 

<真空蒸着装置>
HV100装置名称:HV-100

メーカー:SANYU

導入:昭和59年

機能:金、カーボン等の薄膜蒸着

 

 

 

【乾燥機】

<臨界点乾燥機>
CPD030装置名称:CPD-030

メーカー:BAL-TEC

導入:平成19年

機能:液体二酸化炭素による臨界点乾燥

 

 

 

<凍結真空乾燥機>

ES2030装置名称:ES-2030

メーカー:(株)日立

導入:平成16年

機能:t-ブチルアルコールによる凍結真空乾燥

 

 

 

 

【薄膜試料作製関連】

<ウルトラミクロトーム>

MICRO装置名称:Ultra Cut S

メーカー:Lica

導入:平成8年

機能:軟試料の薄膜製作

 

 

 

<研磨機>

DIA装置名称:ダイヤラップ

メーカー:(株)マルトー

導入:平成23年

機能:小型試料の鏡面研磨

 

 

 

 

 

<切断機>

Cutter装置名称:ダイヤモンドホイール

メーカー:SOUTH BAY Tecorogy

導入:平成23年

機能:小型試料のカッティング

 

 

 

<荒研磨機>

handy装置名称:ハンディラップ

メーカー:自作

導入:平成23年

機能:小型試料の手研磨

 

 

【接触角計】

DM-901
装置名称:DM-700

メーカー:協和界面科学(株)

導入:平成26年

機能:接触角測定および液滴測定